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Cible de pulvérisation d'oxyde d'étain d'indium de cible en céramique d'ITO de semi-conducteur 99.99% pour le revêtement de PVD

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Cible de pulvérisation d'oxyde d'étain d'indium de cible en céramique d'ITO de semi-conducteur 99.99% pour le revêtement de PVD
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Caractéristiques du produit

Caractéristiques propres à l'industrie

Application
Métallurgie, revêtement de PVD, expériences

Autres caractéristiques

Point d'origine
Hunan, China
Marque nom
XinKang
Numéro de Type
XK-ITO 01
Forme
Cible, plaque, cercle, pastilles
Matériel
Oxyde d'indium et d'étain
Composition Chimique
ITO
Nom du produit
Cible céramique oxyde d'indium et d'étain
Pureté
99-99,99%
Taille
D50.8x3mm ou comme demande
Quantité minimale de commande
1PC
Apparence
Surface polie
Couleur
Gris Noir
Utilisation
Revêtement de film de PVD
Délai de livraison
7-21Jours
Mots-clés
Matériau céramique ITO
Forfait
Blister sous vide

Emballage et livraison

Unités de vente :
Article unique
Taille du paquet individuel :
5X5X5 cm
Poids brut par article :
1.000 kg

Délai de préparation de la commande

Description des produits par le fournisseur

1 - 4 pièce
97,95 €
>= 5 pièce
83,26 €

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